听过AMC？他将影响整个半导体产业的未来！

您知道什么是AMC吗?其实AMC是气体性分子污染物(Airborne Molecular Contamination)的缩写，主要被SEMI定义有四大子项目：MA(酸蒸气)、MB(硷蒸气)、MC(凝结物质)及MD(掺杂物质)，来源可能是无尘室外的汽车排气、大气臭氧、工厂排放等，或是洁净室内的化学溶剂挥发、蚀刻酸气、塑料制品溢散等，由于来源非常广泛，污染物项目族繁多元，因此如何有效控制逐渐成为相关业者相当困扰的一大难题。

一、为何现在大家开始重视AMC？ 

(1)AMC对半导体制程良率的影响，其实相关业者很早就已开始进行防范，但过去仅针对于大颗粒物质；但随着制程愈来愈精细，预防的标准也愈形严格，并在28奈米制程时达到检测要求的高峰。不仅在体积大小较过去严苛，AMC检测的项目也从过去单纯的酸硷物质，渐渐扩增到有机物质，而有机物的物种的监测也从过去半导体重视的十多种，渐渐扩增到新的未知有机物物种。 

(2)为何要投入未知物质的侦测？原因在于半导体制程分有很多阶段，每段都有不同的化学物质投入，因此当我们要判断污染来源时，我们除了要判断当下制程的污染外，也要了解前段制程是否残留有污染，或操作人员当下是否有造成其他来源的污染，唯有每段精确的掌握状况，才可能真的杜绝污染源继续发展。 

二、产业如何因应AMC问题？ 

 (1)半导体业者为了与其他竞争者拉出领先差异，对于AMC的全面性检测标准要求日益严格。目前台湾知名半导体大厂也已导入这样的自动监控设备，因为所有业者都了解，透过良率的提升，将是维持竞争优势的最大命脉。 

 (2)光电产业部分，OLED的前端LTPS制程也开始重视AMC的侦测控制。这块制程在电性控制上非常重要，因此AMC的侦测也相形重要。台湾某大面板厂目前也已导入自动监控设备，以求良率的提升。 

面板产业常用的曝光机制程、表层涂布制程，对于AMC干扰都会有相当敏感的反应，因此更需对AMC作更精密的控制。AMC的产生会让曝光机的镜头产生化学反应，进而在光学镜头上产生化合物的附着，而这样的状况就会产生制程上的异常点。(光影污染) 

三、奇鼎在AMC监测上有何优势技术？ 

奇鼎科技在AMC检测上拥有领先业界的优势技术，业已与诸多半导体厂商进行先进制程上的合作，其主要特出效能如下说明。 

 (1)奇鼎透过和某大半导体厂商在 28奈米制程上的合作，将过去繁琐的现场取样，动辄花费半天、一天甚至二天的单点的污染源侦测，直接变成将侦测仪器建置客户端FAB内，自动化进行侦测分析的模式。侦测时间不但可缩减至几近即时的5分钟，取样点也从单点变成40个取样点，取样距离更可达200米，单机即可涵括整个FAB的范围，各项数据都足证奇鼎在IN-LINE侦测解析上的先进技术是远远领先同业。 

(2)奇鼎的IN-LINE取样可以在5分钟内解析出800种AMC物种，除了半导体业界已知会影响良率的400～500种常见物种外，也会同步解析出过去未知的物种；使用者可透过良率的时间轴跟抽样物种的时间轴进行比对， 进而了解哪些物种将可能造成良率的重大影响，即可在未来的制程运作中主动进行该项AMC物种的预防(包含已知物种和未知物种)。 

因应各项制程日益精密的趋势，微型化奈米时代的来临，部分产业过去可接受较宽的污染物容忍值，将肯定会快速进入极严格控制的时代。奇鼎科技提供的AMC侦测解析解决方案，将可协助相关业者进行即时、系统化、高涵盖度的监控，并获取可作后续比对的关键数据，进而透过杜绝关键性微污染物而达到良率提升的目的。